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スパッタリング装置 SPKシリーズ
研究開発から小規模生産用に適した高性能スパッタリング装置

  • 特長
  • 仕様
  • 用途

特長

  • 基板ホルダーで回転することで良好な膜厚分布
  • 基板ホルダーは加熱、水冷が可能
  • 逆スパッタ機能（オプション）
  • カソードは3式装備 2〜3元同時スパッタが可能
  • 容易な基板脱着・ターゲット交換
  • LL室を追加したSPK-Lシリーズもある

仕様例 SPK-503

装置構成
処理室 バッチ式
対応基板サイズ
W60×H120（ホルダー）
MAX16枚/バッチ
カソード
丸形プレーナ型 3台 DCまたはRF
操作
全自動または半自動

用途

  • 磁気記録メディア
  • 電子部品
  • 研究開発
  • その他

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