会社沿革

創業~1990年代

株式会社長岡プレシジョン
津上ロボティックス株式会社
株式会社ユーピーアル
トッキ株式会社ロゴ
実験用有機EL製造装置「Try-ELVESS」
小中量生産用有機EL製造装置「Small-ELVESS」
量産用有機EL製造装置「System-ELVESS」
1967年7月
『津上特機株式会社』を東京都港区新橋に資本金100万円で津上健一が創立。工作機械、自動化機械の販売を開始。
1972年7月
『株式会社長岡プレシジョン』を新潟県長岡市に設立。FAシステム、周辺機器、治工具の設計・製作を開始。
1982年4月
『津上ロボティックス株式会社』を神奈川県横浜市に設立。ロボットエンジニアリング認定企業第1号となる。
1983年7月
真空成膜装置メーカーの『株式会社ユーピーアル』に資本参加。真空薄膜の新分野に進出。
1986年1月
FAシステム、真空成膜システム事業を拡充させるため、津上特機・長岡プレシジョン・津上ロボティックス・ユーピーアルの関連4社を統合して、商号を『トッキ株式会社』に名称変更。新会社として発足。
1991年1月
『店頭登録銘柄』として、財団法人日本証券業協会から登録承認を受ける。
1993年8月
有機EL製造用実験装置を完成。
1996年5月
有機EL中少量生産機を完成。
1999年6月
量産製造用の、有機ELディスプレイ製造全自動システム(ELVESS)を開発。真空技術応用製品事業の中核製品として販売を開始。

2000~2006年

見附工場(現 本社/見附事業所)
2001年2月
フルカラー用の有機EL試作・小量製造システム(Small-ELVESS-C)を開発。販売を開始。フルカラー有機ELの実用化促進を図る。
2001年5月
ケンブリッジ・ディスプレイ・テクノロジー社(CDT・英国)と、高分子有機ELの量産製造技術を確立する共同開発契約を締結。高分子有機ELの実用化推進を図る。
2001年12月
有機EL製造装置の生産力拡大と納期短縮要望に対応すべく、新潟計装株式会社より資産を買い取り新潟工場とする。
2002年9月
公募増資(120万株)により資本金が20億4200万円に増強。
2002年11月
津特機械貿易有限公司(上海)設立 資本比率30%
2003年4月
『見附工場』を新潟県見附市の新潟県中部産業団地に新築完成。
2003年12月
見附工場隣接地にR&Dセンターを竣工。新技術の開発強化を目指す。
2003年12月
公募増資(80万株)により資本金を28億6,120万円に増強。
2004年1月
FAシステム販売並びに工作機械販売等の商品販売を業務とした事業部を新設分割し、連結子会社トッキ・インダストリーズ株式会社として設立。
2004年5月
見附工場にて品質マネジメントシステムの国際規格「ISO9001」の認証を取得。
2004年6月
株式会社トッキテクニカへのトッキ・インダストリーズ株式会社からの出資比率を100%に増加し、子会社とする。当社グループにおけるFAシステムアウトソーシングの中核とする。
2004年12月
日本証券業協会への店頭登録を取り消し、ジャスダック証券取引所に株式を上場。
2005年11月
減資により、資本金を2,500百万円とする。
2006年5月
トッキ・インダストリーズ株式会社が『Tokki INDUSTRIES VIETNAM CO., LTD』をベトナム・ホーチミン市に新規設立し、子会社とする。東南アジア地区における営業・サービス拠点とする。

2007年~現在

ISO 14001
水平型インライン式スパッタリング装置「SPL-Hシリーズ」
平塚事業所
キヤノントッキロゴ
川崎オフィス
2007年1月
見附工場にて環境マネジメントシステムの国際規格「ISO14001」の認証を取得。
2007年1月
GEグローバル・リサーチセンターと有機ELディスプレイ・有機エレクトロニクス製品向け「PE-CVD膜封止技術及び装置」の共同開発に関する業務提携を行う。
2007年4月
メリルリンチ日本証券株式会社に対する新株発行および新株予約権の行使によって、資本金を31億3,754万円に増強。
2007年6月
ドイツ証券株式会社に対する第三者割当増資によって、資本金を36億1,194万円に増強。
2007年12月
キヤノン株式会社との資本業務提携により、キヤノングループの一員となる。
2008年2月
化合物薄膜太陽電池向けスパッタリング量産装置を完成。
2008年3月
三菱商事株式会社、独立行政法人産業総合研究所と有機薄膜太陽電池の共同研究開発契約を締結。
2009年9月
決算期を6月から12月に変更。
2009年12月
本店を東京都中央区から新潟県見附市に移す。
2010年2月
トッキ・インダストリーズ株式会社の全株式を丸紅株式会社等へ譲渡。
2010年6月
スパッタリング装置SPL-H-G5を開発。
2010年10月
株式交換によりキヤノン株式会社の完全子会社となる。
2011年4月
「平塚事業所」を開設。
2011年7月
「韓国サービスステーション天安事務所」を開設。
2012年1月
「キヤノントッキ株式会社」に商号変更。
2015年6月
電子デバイス向けスパッタリングシステム「RRシステム」を開発。
2016年4月
「東京オフィス」を移転し「川崎オフィス」へ名称変更。