会社沿革
創業~1990年代
- 1967年7月
- 『津上特機株式会社』を東京都港区新橋に資本金100万円で津上健一が創立。工作機械、自動化機械の販売を開始。
- 1972年7月
- 『株式会社長岡プレシジョン』を新潟県長岡市に設立。FAシステム、周辺機器、治工具の設計・製作を開始。
- 1982年4月
- 『津上ロボティックス株式会社』を神奈川県横浜市に設立。ロボットエンジニアリング認定企業第1号となる。
- 1983年7月
- 真空成膜装置メーカーの『株式会社ユーピーアル』に資本参加。真空薄膜の新分野に進出。
- 1986年1月
- FAシステム、真空成膜システム事業を拡充させるため、津上特機・長岡プレシジョン・津上ロボティックス・ユーピーアルの関連4社を統合して、商号を『トッキ株式会社』に名称変更。新会社として発足。
- 1991年1月
- 『店頭登録銘柄』として、財団法人日本証券業協会から登録承認を受ける。
- 1993年8月
- 有機EL製造用実験装置を完成。
- 1996年5月
- 有機EL中少量生産機を完成。
- 1999年6月
- 量産製造用の、有機ELディスプレイ製造全自動システム(ELVESS)を開発。真空技術応用製品事業の中核製品として販売を開始。
2000~2006年
- 2001年2月
- フルカラー用の有機EL試作・小量製造システム(Small-ELVESS-C)を開発。販売を開始。フルカラー有機ELの実用化促進を図る。
- 2001年5月
- ケンブリッジ・ディスプレイ・テクノロジー社(CDT・英国)と、高分子有機ELの量産製造技術を確立する共同開発契約を締結。高分子有機ELの実用化推進を図る。
- 2001年12月
- 有機EL製造装置の生産力拡大と納期短縮要望に対応すべく、新潟計装株式会社より資産を買い取り新潟工場とする。
- 2002年9月
- 公募増資(120万株)により資本金が20億4200万円に増強。
- 2002年11月
- 津特機械貿易有限公司(上海)設立 資本比率30%
- 2003年4月
- 『見附工場』を新潟県見附市の新潟県中部産業団地に新築完成。
- 2003年12月
- 見附工場隣接地にR&Dセンターを竣工。新技術の開発強化を目指す。
- 2003年12月
- 公募増資(80万株)により資本金を28億6,120万円に増強。
- 2004年1月
- FAシステム販売並びに工作機械販売等の商品販売を業務とした事業部を新設分割し、連結子会社トッキ・インダストリーズ株式会社として設立。
- 2004年6月
- 株式会社トッキテクニカへのトッキ・インダストリーズ株式会社からの出資比率を100%に増加し、子会社とする。当社グループにおけるFAシステムアウトソーシングの中核とする。
- 2004年12月
- 日本証券業協会への店頭登録を取り消し、ジャスダック証券取引所に株式を上場。
- 2005年11月
- 減資により、資本金を2,500百万円とする。
- 2006年5月
- トッキ・インダストリーズ株式会社が『Tokki INDUSTRIES VIETNAM CO., LTD』をベトナム・ホーチミン市に新規設立し、子会社とする。東南アジア地区における営業・サービス拠点とする。
2007年~現在
- 2007年1月
- 見附工場にて環境マネジメントシステムの国際規格「ISO14001」の認証を取得。
- 2007年1月
- GEグローバル・リサーチセンターと有機ELディスプレイ・有機エレクトロニクス製品向け「PE-CVD膜封止技術及び装置」の共同開発に関する業務提携を行う。
- 2007年4月
- メリルリンチ日本証券株式会社に対する新株発行および新株予約権の行使によって、資本金を31億3,754万円に増強。
- 2007年6月
- ドイツ証券株式会社に対する第三者割当増資によって、資本金を36億1,194万円に増強。
- 2007年12月
- キヤノン株式会社との資本業務提携により、キヤノングループの一員となる。
- 2008年2月
- 化合物薄膜太陽電池向けスパッタリング量産装置を完成。
- 2008年3月
- 三菱商事株式会社、独立行政法人産業総合研究所と有機薄膜太陽電池の共同研究開発契約を締結。
- 2009年9月
- 決算期を6月から12月に変更。
- 2009年12月
- 本店を東京都中央区から新潟県見附市に移す。
- 2010年2月
- トッキ・インダストリーズ株式会社の全株式を丸紅株式会社等へ譲渡。
- 2010年6月
- スパッタリング装置SPL-H-G5を開発。
- 2010年10月
- 株式交換によりキヤノン株式会社の完全子会社となる。
- 2011年4月
- 「平塚事業所」を開設。
- 2011年7月
- 「韓国サービスステーション天安事務所」を開設。
- 2012年1月
- 「キヤノントッキ株式会社」に商号変更。
- 2015年6月
- 電子デバイス向けスパッタリングシステム「RRシステム」を開発。