真空関連：CVD装置CVD装置 ELVESS-PE-CVD有機ELから半導体、太陽電池まで様々な用途に活躍
- 概要
- 用途
基本情報
装置名：ELVESS-PE-CVD
特長
メタルマスクスルー成膜可能
80℃以下の低温成膜が可能
基板対応サイズが第4世代まで対応
フェイスダウン／フェイスアップ、どちらの成膜 方法にも対応可能
用途
- 有機ELディスプレイ
- 有機半導体
- 太陽電池
- その他